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Centrifugal cleaner

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离心清洗机

 

 

使用于Wafer、CMOS-本体、基板、CCD外壳粉屑、杂质 Holder、Holder+IR、Lens、Vcm等清除作业。具有清洗效率高,操作简单,清洗效果好的特点。质量可靠,售后服务方便。

 

产品优势

 

01 可更换清洗盘清洗多种产品,清洗盘产品定做;


02 设备操作方便快捷,更具人性化;


03 设备采用二流体清洗,清洗精度高,对产品零损伤,纯水消耗量极小;

 

04 旋转式喷杆,避免二次污染产品;


05 高速离心设计,转速可调节100-3000R/Min;


06 配备静电消除装置,腔闭加热装置,辅助清洗达到最佳效果;


07 配备2级空气过滤系统,压缩空气符合ISO8573.1标准;


08 缩减宽度的省空间设计,减少无尘车间的占用面积;


09 整机不锈钢机身,能耐酸碱,对工作环境无污染,镜面机壳设备保养易于清理;


10 完全使用超纯水清洗,符合Rosh标准。